Prvková analýza pevných vzorků pomocí XRF a LIBS

Slides:



Advertisements
Podobné prezentace
MapCHECK 2 SUN NUCLEAR corporation
Advertisements

vvvv Černík M. Slovák J. Stejskal M. Zeman J.
Degradační procesy Magnetické vlastnosti materiálů přehled č.1
Využití radionuklidové rentgenfluorescenční analýzy při studiu památek R. Bulín 1), H. Fartáková 2) 1) Gymnázium Plasy 2) Gymnázium Jiřího Gutha-Jarkovského,
Převody jednotek délky objemu hmotnosti času
Vysoké učení technické v Brně
Pavel Janoš Optické metody Pavel Janoš 1 INAN
Přístroje pro bezpečnostní funkce
Radiační příprava práškových scintilátorů Jakub Kliment Katedra Jaderné chemie FJFI ČVUT Evropský sociální fond Praha & EU: Investujeme do vaší budoucnosti.
NORMOVANÉ NORMÁLNÍ ROZDĚLENÍ
Zařízení pro měření fotopolymerních záznamových struktur
České vysoké učení technické v Praze
Ramanova spektrometrie
Molekulová fluorescenční spektrometrie
SOŠO a SOUŘ v Moravském Krumlově
Fázová analýza kvalitativní kvantitativní Databáze práškových difrakčních dat ASTM – American Society for Testing of Materials, 1950 JCPDS – Joint Committee.
Optické metody Metody využívající lom světla (refraktometrie)
ELEKTRONOVÁ PARAMAGNETICKÁ (SPINOVÁ) REZONANCE
Semestrální práce Analýza zpoždění signálů v 2-kanálové databázi řeči pomocí vzájemné korelace A2M99CZS Václav Dajčar, Roman VondráčekPraha, 2010.
– základní matematické operace se signály (odečty, podíly...) – složitější operace se sadou datových souborů – tvorba maker pro automatizaci zpracování.
The world leader in serving science Infračervená spektroskopie Princip, aplikace a souvislosti se správnou výrobní praxí Ing. Martin Hollein, Nicolet CZ.
Ing. Rudolf Drga, Ph.D. Zlín 2014 Měření směrových charakteristik detektorů narušení Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně Fakulta aplikované informatiky Ústav.
ScanStation P20 – uživatelská kalibrace (procedura Check & Adjust)
Základy počítačové grafiky
Selhávání pryžových výrobků: struktura lomových ploch
Odraz a lom na rovinném rozhraní Změna fáze a vlnové délky na rozhraní
 denzita snímku D je závislá na intenzitě záření mAs a jeho pronikavosti kV  D = mAs. kV 3-5  V rozsahu 50 – 125 kV jde o 3. mocninu,  5. mocnina se.
OPTICKÁ EMISNÍ SPEKTROSKOPIE
Fyzika 2 – ZS_4 OPTIKA.
Spektrum záření gama, jeho získávání a analýza
Příprava plánu měření pro přírubu
Josef Dočkal, Růžek Lukáš. Naše hlavní úkoly jsou detekce alfa záření, změření spektra radioaktivních prvků a na konec vše porovnat s jinými metodami.
Uplatnění spektroskopie elektronů
Instrumentální analýzy
Stanovení přítomnosti methanolu v alkoholických nápojích pomocí Ramanovy spektroskopie Lukáš Kusýn.
Interpretace výsledků modelových výpočtů
Spektrometrie vysokoenergetického záření gama Vhodné využít anorganické scintilátory: BGO, BaF 2, PbWO 4 Elektromagnetická sprška E γ >> 1 MeV fotoefekt.
Výukový materiál zpracován v rámci projektu EU peníze školám
Udávání hmotností a počtu částic v chemii
Výukový materiál zpracován v rámci projektu EU peníze školám Registrační číslo projektu: III/2VY_32_inovace_120.
Nanokrystalické oxidy kovů Libor Libor Machala
Spektra látek Při průchodu světla optickým hranolem vzniká v důsledku disperze světla tzv. hranolové spektrum.   Podobné spektrum vzniká také při průchodu.
Fázová analýza Polymorfismus Izomorfismus Omezení na krystalické látky.
Elektronová mikroskopie a mikroanalýza-4
Detekce pozice Lukáš Pawera polohově citlivé detektory (PSD)
Optické difúzní vnitřní bezdrátové komunikace: distribuce optického signálu Ing. David Dubčák VŠB-Technická univerzita Ostrava Katedra elektroniky a telekomunikační.
Rentgenová fluorescenční spektrometrie XRF
Využití radionuklidové rentgenfluorescenční analýzy při studiu památek
Stanislava Matějková Štefan Štanga ÚOCHB AV ČR, v.v.i, Praha
Monte Carlo simulace Experimentální fyzika I/3. Princip metody Problémy které nelze řešit analyticky je možné modelovat na základě statistického chování.
LIPS - Laser Induced Plasma Spectrometry
Fotočlánky Fotoelektrický jev byl poprvé popsán v roce 1887 Heinrichem Hertzem. Pozoroval z pohledu tehdejší fyziky nevysvětlitelné chování elektromagnetického.
Denzitometrie Reflexní fotometrie
Elektronová absorpční spektra
Co bude? Rentgenfluorescenční analýza Můj experiment
Aplikace rentgenfluorescenční analýzy při studiu památek Z.Ferda, T.Kulatá, L.Bandas Rentgenfluorescenční analýza je fyzikální metoda, pomocí které snadno,
Gama spektroskopie určení rozpadových prvků pomocí tepelných a epitermálních neutronů Supervisor: Vojtěch Motyčka, CV Řež s.r.o. Tým: Ondřej Vrba, Vojtěch.
Obsah prezentace Princip fungování Technické parametry Proces realizace Závěrečné zhodnocení 4.
Laserová difrakce pro měření velikost částic Ing. Jana Kosíková SUPMAT – Podpora vzdělávání pracovníků center pokročilých stavebních materiálů Registrační.
Fyzikálně chemické analýza A. Dufka  Chemická analýza  Diferenční termická analýza (DTA)  Stanovení pH betonu ve výluhu  Rentgenová difrakční analýza.
INSTRUMENTÁLNÍ METODY. Instrumentální metody využití přístrojů.
LIBS Laser-Induced Breakdown Spectroscopy Spektrometrie laserem buzeného plazmatu.
LA - ICP - OES/MS. Indukčně vázané plazma ICP l Excitační zdroj pro atomovou emisní spektrometrii (ICP-AES), excitace M a M + l Ionizační zdroj pro anorganickou.
Spektroskopie.
Metoda IČ (IR) spektrometrie
Laserové skenování 3D záznam tvarů objektů dopadem laserového paprsku na předmět a detekce odraženého záření – intenzita a směr, složení obrazu z velkého.
Vendula Kucharčíková Zuzana Šiková Štěpán Timr
Rentgenfluorescenční analýza
Statistika a výpočetní technika
Základy statistiky.
Transkript prezentace:

Prvková analýza pevných vzorků pomocí XRF a LIBS Miloslav Pouzar

XRF spektrometrie Princip detektor vzorek rentgenka difrakční krystal

XRF spektrometrie Fluorescence 0 0 K K K K L M

Charakteristické záření prvků ze vzorku XRF spektrometrie Interakce rentgenového paprsku se hmotou Rayleighův rozptyl 0 0 0 0 1 1 0 0 1 K K Comptonův rozptyl K Charakteristické záření prvků ze vzorku

XRF spektrometrie Tloušťka vrstvy z níž je získáván signál

Laser Induced Breakdown Spectrometry source Laser head Mirror Focusing lens Sample Positioning table Plasma discharge Collecting lens Optical fiber Spectrograph Detector

LIBS spektrometr LEA S500 (Solar TII, Bělorusko) Q-switched Nd:YAG laser 1064 nm kolineární dvou-pulzní délka pulzu 10 ns zpoždění mezi pulzy 0 – 20 µs energie pulzu 80 – 150 mJ CCD kamera back thinned front illuminated 2048×14 pixels spektrograf Czerny – Turner ohnisková vzdálenost 500 mm mřížka 1800 vrypů.mm-1 rozsah vlnových délek 170 – 800 nm reciproká disperse 1 nm.mm-1 rozlišení 0.028 nm analytické okno 30 nm

* možné s XRF přístroji **možné s některými LIBS přístroji (LEA - S500) ED XRF (Elva X) rozsah prvků Li - Pb Na - U skupenství vzorků pevné pevné, kapalné opotřebení vzorku minimální žádné povrchové mapování s obtížemi prakticky nemožné* hloubkové profily prakticky nemožné dálková analýza není možná * * není možná doba integrace spektra 10 s 30 - 600 s počet analytických bodů na jednom vzorku 4 - 16 1 komplexita spektra vysoká nízká počet parametrů, které je nutno optimalizovat při vývoji metody 8 3 * možné s XRF přístroji **možné s některými LIBS přístroji

Spektrum LEA S-500 Vzorek ocel Vlnová délka 275 - 305 nm Energie lampy 14 J (70 mJ) Velikost spotu 800 m Vstupní štěrbina 12 m QSW delay 7 s

Spektrum LEA S-500 rozsah 180 - 780 nm velikost okna 30 nm Vzorek ocel Vlnová délka 275 - 305 nm Energie lampy 14 J (70 mJ) Velikost spotu 800 m Vstupní štěrbina 12 m QSW delay 7 s rozsah 180 - 780 nm velikost okna 30 nm počet regionů 20 rozsah 0 - 30 J krok 0,5 J rozsah 170 - 1200 m krok 1 m rozsah 10 - 80 m krok 1 m typické nastavení 7 s

Mn Mn Mn

Typy analýz na LEA s 500 Kvalitativní analýza (z jakých prvků je složen vzorek?)‏ potvrzení přítomnosti prvku ve vzorku (nikoli vyloučení !)‏ Srovnání vzorků potvrzení rozdílného obsahu sledovaného prvku ve vzorku se stejnou matricí, formou vzorku a povrchovou úpravou (nikoli vyloučení !)‏ třídění materiálů – nejprve nutno vytvořit databázi materiálů a pravidla pro diskriminační analýzu Mapping lokální analýza povrchová distribuce prvku s málo proměnlivým plošným složením matrice hloubkový mapping pouze ve spojení se speciálními technikami přípravy vzorku

Typy analýz na LEA s 500 Kvalitativní analýza (z jakých prvků je složen vzorek?)‏ potvrzení přítomnosti prvku ve vzorku (nikoli vyloučení !)‏ Srovnání vzorků potvrzení rozdílného obsahu sledovaného prvku ve vzorku se stejnou matricí, formou vzorku a povrchovou úpravou (nikoli vyloučení !)‏ třídění materiálů – nejprve nutno vytvořit databázi materiálů a pravidla pro diskriminační analýzu Mapping lokální analýza povrchová distribuce prvku s málo proměnlivým plošným složením matrice hloubkový mapping pouze ve spojení se speciálními technikami přípravy vzorku

Typy analýz na LEA s 500 Kvantitativní analýza (jaká je koncentrace prvku ve vzorku?)‏ LIBS je sekundární metoda – přístroj je nutno nakalibrovat kalibrační standardy jinou metodou zanalyzované reálné vzorky standardní referenční materiály syntetické standardy (pozor na rozdílnost matrice) požadavky na kalibrační standardy složení matrice standardů a vzorků co nejvíce podobné forma a povrchová úprava vzorků a standardů totožná vysoká homogenita standardů koncentrace prvků ve vzorku nesmí vybočovat z koncentračního rozpětí standardů rovnoměrné rozložení koncentrací prvku v kalibrační řadě – ne odlehlé body (pozor na postupné ředění)

Kvantitativní analýza na LEA s 500 Vývoj analytické metody shromáždění sady kalibračních standardů výběr analytických čar (konstrukce analytických regionů)‏ hledisko matrice vzorku hledisko počtu analyzovaných prvků a vzájemného vztahu (zejména polohy a poměrné intenzity) příslušných analytických čar minimalizace počtu regionů – důležité zejména u málo rozměrných vzorků, u vzorků s horší homogenitou a při stopové analýze na hranici DL

Kvantitativní analýza na LEA s 500 Vývoj analytické metody optimalizace parametrů spektrometru – proporcionální vztah mezi koncentrací prvku a intenzitou příslušné analytické čáry počet čistících impulsů (blank flash)‏ počet měřených impulsů v jednom bodě průměr analyzovaného bodu energie laseru šířka vstupní štěrbiny spektrometru časová prodleva mezi pulsy homogenita, korozní vlastnosti materiálu SBR, rozlišení, citlivost analyzovaná plocha poměr mezi čarami jednotlivých prvků, citlivost

Kvantitativní analýza na LEA s 500 Vývoj analytické metody optimalizace počtu a rozložení analyzovaných bodů

Kvantitativní analýza na LEA s 500 Vývoj analytické metody naměření spekter volba a umístění bodů pro korekci pozadí vyhodnocení kalibrační závislosti Měření známého vzorku s neznámou koncentrací analytu výběr metody (hardwarové podmínky) naměření spekter vyhodnocení výsledků s využitím příslušné kalibrační závislosti Rutinní záležitost

Příklady praktických aplikací LIBS spektrometru LEA s500 Miloslav Pouzar

Metodika experimentů Skupina reálných vzorků analyzována pomocí ICP OES po mikrovlnné mineralizaci vzorků Tyto vzorky použity pro optimalizaci LIBS a ED XRF parametrů a pro kalibraci obou technik porovnání kalibračních modelů (R2, AIC, MEP) a limit detekce LODs LIBS and XRF metodik měření jiné skupiny reálných vzorků oběma metodami, porovnání výsledků

Analýza Cr v barvených vlněných textiliích vzorky barveny dvěma komplexními barvivy šeď (Ostalan Gray BL Supra) oranž (Ostalan Orange RLN Supra) plošná hmotnost vzorků 250 g.m-2 šeď XRF LIBS oranž 1 mm

LIBS spektrum barvené textilie s obsahem Cr 100 mg.kg-1 Cr 360.532 nm C 358.580 nm LIBS spektrum barvené textilie s obsahem Cr 100 mg.kg-1

Analýza Cr v barvených vlněných textiliích 15 kalibračních standardů; rozsah koncentrací 10 - 160 mg.kg-1 kalibrační křivka LIBS [ R2= 0.9959 MEP = 18.1] [ R2= 0.9945 MEP = 39.0] kalibrační křivka XRF [ R2= 0.9973 MEP = 11.3] [ R2= 0.9986 MEP = 7.1] LODs (3 →  vypočtena z 10 opakovaných měření vzorků s obsahem Cr 5 mg.kg-1) LODLIBS = 5.3 mg.kg-1 LODLIBS = 9.5 mg.kg-1 LODXRF = 4.9 mg.kg-1 LODXRF = 4.4 mg.kg-1

Analýza Cr v barvených vlněných textiliích CLIBS = 1.48 + 0.96 CXRF CLIBS = -0.36 + 1.01 CXRF R2 = 0.9883 R2 = 0.9949

Analýza V ve vzorcích hexagonální mezoporézní siliky 10 kalibračních standardů V-HMS katalyzátorů koncentrační rozsah 1.3 - 4.5 % (w/w) Příprava vzorků - LIBS ředění vzorku čistou HMS matricí (1:5) homogenizace ve vibračním mlýnku depozice práškové směsi na lepicí pásku Příprava vzorků - XRF nasypání vzorku do vzorkovnice o průměru 1.5 cm překrytí Mylarovou fólií

LIBS spektrum 285 - 315 nm V-HMS - koncentrace V 3.5 % (w/w)

Analýza V ve vzorcích hexagonální mezoporézní siliky kalibrační přímka LIBS analytická čára - V 311.071 nm kalibrační přímka XRF analytická čára - V K1 4.95 keV

Analýza V ve vzorcích hexagonální mezoporézní siliky Vzorek   Příprava vzorku LIBS CV [w/w %] ED XRF LIBS/XRF A1 V-HMS-imp 4.43 4.57 0.969 A2 3.02 3.06 0.987 A3 1.99 2.00 0.997 B1 V-HMS-synt  0.35 2.65 0.132 B2 1.35 2.20 0.612 B3 1.48 4.00 0.371

Analýza Ti ve vzorcích textilu impregnovaných suspenzí TiO2 nanočástic TiO2 nanočástice o velikosti 100 nm koncentrační rozsah Ti ve standardech 25 - 1125 mg.kg-1 bavlna, kepr, vlna, viskóza

Analýza Ti ve vzorcích textilu impregnovaných suspenzí TiO2 nanočástic

Děkuji za pozornost